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扭曲向列型液晶显示器（TN-LCD）的生产流程
来源：本站 作者：匿名 发布：2015/7/4 修改：2015/7/4
隶属：LCD技术资料 点击：1857
TN-LCD生产根据其工艺特性可分为前工序和中后工序。前工序包括光刻工序、定向制盒工序。前工序对环境的净化度、温湿度要求相当高，是LCD生产的心脏部分，中后工序主要包括切割、灌晶、检验、贴片等工序，相对来讲，除灌晶外，其它工序对环境的净化度，温湿度就没有特别要求。
TN-LCD生产过程比较复杂，工序流程多，各工序技术特点各异，同时第微毫环境净化度、温湿度要求高，尤其对原材料的性能要求苛刻。因而LCD生产可以说是一门技术含量较高,生产难度较大的综合技术.在这里我想着重介绍一下光刻及定向制盒工序的生产技术。
1光刻技术:
光刻是液晶显示器制造的关键工序之一，光刻的目的就是根据显示要求，通过涂胶曝光、显影、腐蚀、脱膜工序，得到我们需要的图形。目前，显示屏的图形越来越复杂，粘密度越来越高，所以粘密光刻技术在LCD生产中显得尤为重要。根据光刻的原理。影响光刻的主要因素是：1光刻胶膜的厚度、均匀性；2光密度比较均匀的平行紫外光以及合理的曝光量；3合理的显影、腐蚀条件。
1.1光刻胶膜的厚度、均匀性
为提高图形的分辨率，我闪希望得到比较薄的光刻胶膜，这样光的散射和平行射较轻，光刻的细小图形清晰、边缘整齐。但为了经受住较长时间的腐蚀，太薄的光刻胶膜无法腐蚀，我们应该选择合适的胶膜厚度。根据生产的实际情况，各个厂家可以选择0.8um~1.5un均匀性±155的光刻胶膜为宜，实际生产中，为了达到上面的要求，要注意控制好以下几点：1选择性能稳定的机器和胶辊，其中胶辊的各个参数，如材料种类硬度、沟槽的具体形状尺寸、非常重要。2使用与胶辊相对应的光刻胶的浓度，胶的浓度直接影响胶层的厚度，通常用的胶有60CP、30CP、20CP等几种规格各家工厂可根据自已具体的胶辊开头来选择胶的浓度。
1.2曝光技术
目前产品的光刻粘度越来越高，为了保证光刻质量，首先要选择光密度分布均匀，光平行度良好的曝光机；其次要特别注意掩膜版与涂胶面的距离，这个距离越小，光的衍射作用就越小，曝光的效率越好，一般以0。2MM左右为宜；最后要选择合适的曝光量，各个工厂可以根据胶的厚度及胶的性能来确定。
1.3显影及腐蚀的工艺技术
显影液一般可以选择NAOH/KOH溶液，浓度为0.5%~1%左右,各个工帮应视具体的工艺条件而定。而腐蚀液也有很多种。目前较常用的有HCL-HNO3、FECL3-HCL。我公司是用FECL3-HCL条例，该腐蚀液缓冲性能良好、工艺范围较宽，可操作性强。
1.4定向膜技术:
定向膜的工艺原理为:在刻蚀好图形的玻璃上均匀地印上一层聚酰胺酸膜,经高温缩水反应后变成聚酰亚胺;然后膜层经绒布高速旋转摩擦后,产生使液晶分子按摩擦方向平行排列的细线沟槽,定向膜技术的关键是控制好PI膜层厚度及均匀性,选择好摩擦强度,即1选择性能稳定的PI印刷机器和转印效果良好的凸版,PI膜的厚度及均匀性,一般要示PI膜的厚度控制在500A°~800A°,均匀性要求±15%;2摩擦强度,影响摩擦强度的因素为:滚筒直径、转速、平台速度及绒毛下压距，具体可以用下面公式来计算：S=L´P=N[1+2prn/V]´P其中N为摩擦次数，r为滚筒半径，U为平台走速，P为下压距。
我们推着的摩擦条件：P=0.3-0.5MM, r=600-800转/min v=3-4m/min.
2制盒技术
制盒工艺主要是用环氧树酯作为密封胶得到密封性能良好、盒厚均匀性良好的空盒，其中包含丝印技术，隔子（spacer）分数和热压固化技术。
丝印技术：利用丝网图形部分网孔可透过浆料，而非图形部分网孔不透浆料的基本原理进行印刷。由于LCD生产中，丝印的承印物是摩擦后的玻璃，表面沟槽非常娇弱，所以对丝印工艺有特殊的要求。在实际生产中，要特别注意控制好以下几个工艺参数：网板的张力与网距，胶刮的材质、角度及下压距，丝印压力，浆料的粘度。
隔子（spacer）分数技术：spacer的分布均匀性是影响盒厚的关键因素，从实际生产看，通常采用湿喷和干喷二种方法。湿喷设备简单，操作方便，所以被TN-LCD厂家广泛使用。湿喷要注意以下两点：1选择合理的分散体系，使spacer在分散液中一定要分散均匀，不能结块、聚集；2选择合理的喷头，调节好实际工作时喷头高度、气压等各项工艺参数，保证喷粉的密度和均匀性。
热压固化技术：选择能使温度变化而压力恒定的压板或气囊工装完成。在这个工艺过程中，特别要注意压力、固化温度、固化时间等工艺参数。
3 LCD中后工序包括了玻璃切割、灌晶、测试、贴片等技术，由于相对较简单，我想在这里就不一一编述
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