光刻胶性能的好坏对光刻质量影响很大，习惯上常用感光度、分辨率、抗蚀性、粘附能力和针孔密度等指标来衡量其优劣。下面对几个指标作一些简单介绍。 (1)感光度 感光度是一个表征光刻胶对光敏感的性能指标。感光度不同，表示它对光的敏感程度不同，即光化学反应所需的曝光量不一样。感光度S要用曝光时使光刻胶发生光化学反应所需的最小曝光量H的倒数来表示。 式中，h为比例常数，曝光量H的单位一般用勒[克斯]秒(1x..s)表示。由于曝光量H的数值等于照射光的强度I与曝光时间t的乘积，故感光度S呆以进一步表示为： 对于某固定光强的曝光机，光刻胶的感光度越高，则曝光时间越短；反之，如光刻胶胶的感光度降低，则曝光时间需相应加长。 (2)分辨率 分辨率是表征光刻胶的光刻精度的标志之一。它不仅与光刻胶本身有交，还与光刻工艺条件和操作因素有关。分辨率有两咱表示法：第玫中是以每毫米最多可容纳的线条数来表示，若可分辨的线宽为W/2(线与线之间空白的宽度为W/2)，则分辨率为1/W(条线/毫米)。例如,若W=0.5um,则分辨率为2000条线/毫米.第二种表示分辨率方法为，分辨率=(L1-L0)/2，其中L0为掩模版图形(即光刻底版)的尺寸，L1为光刻(即曝光显影腐蚀)后ITO层上图形的尺寸。目前大多采用的是第一种表示法。 (3)抗蚀性 生产上要求光刻胶对酸、碱化学腐蚀液具有良好的抗蚀能力，即能经受得住较长时间的酸碱腐蚀液的浸蚀。实际上，光刻胶只是在针孔密度小、粘附性能良好的情况下，才可能有较好的抗蚀能力。 (4)粘附能力 粘附能力表示光刻胶与衬底之间的牢固程度，它直接影响光刻后的精度。光刻胶的粘附力不仅与光刻胶的本身性质有关，而且与衬底的性质及其表面情况有密切关系，平整、致密、清洁、干燥的衬底表面有利于光刻胶的粘附。此外，光刻胶的配比前烘条件和显影液配方等因素也都会影响光刻胶的粘附性。 (5)稳定性 生产上要求光刻胶具有一定的稳定性，即要求光刻胶在常温和光(主要是紫外光)习蔽的情况下，光刻胶下应发生暗反应。要求光刻胶杂质含量少，显影后无残渣。 (6)针孔密度 单位面积的光刻胶膜上针孔数目称为光刻胶膜的针孔，经腐蚀之后将在ITO层相应位置上形成针孔，它将直接影响光刻质量，所以要求光刻胶膜的针孔密度尽可能低。 (7)粘度和固态含有率 光刻胶的粘度和固态含有率是影响覆胶膜厚度的主要因素。光刻胶越浓，它的粘度就越大(即越稠)，在相同涂胶条件下，所得到的胶膜就越厚；反之，则粘度小，胶膜薄。因此，我们可以通过改变胶液的浓工来调节胶的粘度，进而控制胶膜的厚度。例如，光刻细小的图形时，为了提高分辨率，胶层必须相对地薄些，故必须采用浓度较稀的胶液。 实验表明，温度和光刻胶的固态含有率对光刻胶的小度有很大影响，温度高，固态含有率低均可使光刻胶的粘度变小。固态含有率不但通过粘度影响胶膜厚度，而且它本身对膜厚也有直接影响，如固态含有率大，则胶液干燥这后，胶膜就比较厚。在光刻胶中总是存在一定比例的固态杂质微粒，这提高分辨率不利，所以光刻胶配制完毕后，必须用高速离心机或过滤器把固态杂质微粒滤除。 中山LCD液晶：http://www.zs-jinrun.com